pr1 2000a1光刻胶价格-赛米莱德

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    2020-8-19

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光刻胶介绍

光刻胶介绍

光刻胶(又称光致抗蚀剂),是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、x射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。光刻胶具有光化学敏感性,pr1 2000a1光刻胶价格,其经过---、显影、刻蚀等工艺,pr1 2000a1光刻胶,可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。因此光刻胶微细加工技术中的关键性化工材料,被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作。生产光刻胶的原料包括光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体和其他助剂等。


nr9-3000py

11.请教~有没有同时可以满足rie

process 和lift-off

process的光阻,谢谢!

a 我们使用futurrex

nr1-300py来满---上工艺的需求。

12.futurre光刻胶里,有比较容易去除的负光阻吗?

a nr9-系列很容易去除,可以满足去胶需要。

13.我们目前用干膜做窄板,解析度不够,希望找到好的替代光阻?

a nr9-8000因为有---的ar比例,适合取代,在凸块的应用上也有很大的好处。

14.传统的color

filter 制程,每个颜色的烘烤时间要2-3个小时,有没有更快的方法制作coior

filter?

a 用于silylation制程------烘烤时间只需要2分钟,同时光阻不需要reflow, 颜色也不会老化改变,pr1 2000a1光刻胶公司,只需要在filter上面加热溶解pr1-2000s光阻,microlenses就能形成!

15.请问有专门为平坦化提供材料的公司吗?

a 美国futurrex公司,专门生产应用化学品的,可以为平坦化的材料提供pc3-6000和pc4-1000都是为平坦化用途设计,台湾企业用的比较多。

16.我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布protective

coating,那种适合??

a 美国futurrex,pc4-10000。

17.腊是用来固定芯片的,但很难清洗干净,哪里有可以替代的产品介绍下,谢谢?

a 我们公司是使用futurrex

pc3-6000,可以替代的,而且去除比较容易,pr1 2000a1光刻胶报价,你可以---下。

18.请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与mems应用的光刻胶吗?

a nr4-8000p可以做到140微米的厚度,并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题,如果是其他非镀镍衬底nr9-8000p是适合的选择。

19.谁有用在光波导图案的光刻胶?是否可以形成角度为30度的侧壁?

a 你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷,nr4-8000p是专门为光波导图案应用进行设计的产品。


美国futurrex的光刻胶

北京赛米莱德贸易有限公司供应美国futurrex新型lift-off光刻胶nr9-3000py,此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线(366纳米)---工具。当显---显示出负的侧壁角度,是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比nr9i-3000py有下面的优势: 1. 比较高的光刻速度,可以定制光刻速度来---产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据---能量可以比较容易的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用rr5去胶液可以很容易的去胶 nr9-3000py的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。主要的溶剂是,nr9-3000py的显影在水溶液里完成。属固含量(%):31-35 主要溶剂: 外观: 浅液体涂敷能:均匀的无条纹涂敷 100摄氏度热板烘烤300秒后膜厚涂敷自旋速度 40秒自旋。



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