问题回馈：
1．我们是led制造商，麻烦几款可以用于离子蚀刻和lift-off工艺的光刻胶。
a 据我所知，futurrex
有几款胶很，nr7-1500p
nr7-3000p是专门为离子蚀刻
设计的，nr9-3000py可以用于lift-off上的应用。
2．请问有没有可以替代goodpr1518，micropure去胶液和goodpr显影液的产品？
a 美国光刻胶，futurrex
正胶pr1-2000a
，nr7 6000py光刻胶多少钱， 去胶液rr4，和显影液rd6可以解决以上问题。
3．你们是否有可以替代shipley
s1805的用于dvd的应用产品？
a 我们建议使用futurrex
pr1-500a ， 它有几个优点：比较好的解析度，比较好的线宽控制，
反射比较少，不需要hmds，rie后去除容易等~
4． 求助，耐高温的光阻是那一种？
a futurrex， nr7 serious(负光阻)orpr1 serious(正光阻)，再经过hmcts
silyiation process，可以达到耐高温200度，pspi透明polyimide，可耐高温250度以上。
5．厚膜光阻在镀金应用上，用哪一种比较理想？
a futurrex ，nr7 6000py光刻胶， nr4-8000p比干膜，和其他市面上的湿膜适合，和理想。
6．请教lift-off制程哪一种光阻适合？
a 可以考虑使用futurrex
，正型光阻pr1，负型光阻用nr1&nr7，它们都可以耐高温180度，完全可以取代一般制作pattern的光阻。
7．请问，那位---知道，rie
mask，用什么光阻比较好？
a 正型光阻用pr1系列，负型光阻使用nr5，两种都可以耐高温180度。
8．一般厚膜制程中，哪一种光阻适合？
a nr9-8000p有---的深宽比（超过4：1），一般厚膜以及，mems产品的高需求。
9．在deep
rie和mask 可以使用nrp9-8000p吗？
a 建议不使用，因为使用nr5-8000理想和适合。
10．我们是oled，我们有一种制程上需要一层spacer，那种光阻适合？
a 有一种胶很适合，美国futurrex
生产的nr1-3000py
and和
nr1-6000py，都适合在oled制程中做spacers
正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解存在时，nr7 6000py光刻胶厂家，线性酚醛树脂会溶解在显影液中，感光剂是光敏化合物，nr7 6000py光刻胶，常见的是------（dnq）。在---前，dnq是一种---的溶解，降低树脂的溶解速度。在紫外---后，dnq在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种---反应会在dnq中产生羧酸，它在显影液中溶解度---。正性光刻胶具有---的对比度，所以生成的图形具有---的分辨率。
北京赛米莱德贸易有限公司供应美国futurrex新型lift-off光刻胶nr9-3000py，nr9i-3000py有下面的优势： 1. 比较高的光刻速度，可以定制光刻速度来---产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据---能量可以比较容易的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用rr5去胶液可以很容易的去胶 nr9-3000py的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。
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nr7 6000py光刻胶-赛米莱德公司由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司坚持“以人为本”的企业理念，拥有一支技术---的员工队伍，力求提供---的产品和服务回馈社会，并欢迎广大新老客户光临惠顾，真诚合作、共创美好未来。赛米莱德——您可---的朋友，公司地址：北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208，联系人：况经理。
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