光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，安徽光刻胶，---是近年来---和---规模集成电路的发展，更是大---进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。
1、光刻胶的技术复杂，光刻胶公司，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶。反之，对某些溶剂是不可溶的，光刻胶厂家，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。
2、普通的光刻胶在成像过程中，由于存在一定的衍射、反射和散射，降低了光刻胶图形的对比度，从而降低了图形的分辨率。随着---加工特征尺寸的缩小，入射光的反射和散射对提高图形分辨率的影响也越来越大。为了提高---系统分辨率的性能，人们正在研究在---光刻胶的表面覆盖抗反射涂层的新型光刻胶技术。该技术的引入，可明显减小光刻胶表面对入射光的反射和散射，从而---光刻胶的分辨率性能，但由此将引起工艺复杂性和光刻成本的增加。
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1959 年被发明以来就成为半导体工业---的工艺材料之一。随后光刻胶被改进运用到印制电路板的制造工艺，成为 pcb 生产的重要材料。
二十世纪 90 年代，光刻胶又被运用到平板显示的加工制作，对平板显示面板的大尺寸化、高精细化、彩色化起到了重要的推动作用。
在半导体制造业从微米级、亚微米级、深亚微米级进入到纳米级水平的过程中，光刻胶也起着举足轻重的作用。
总结来说，光刻胶产品种类多、---性强，需要长期技术积累，对企业研发人员素质、行业经验、技术储备等都具有---要求，企业需要具备光化学、有机合成、高分子合成、精制提纯、微量分析、性能评价等技术，具有---的技术壁垒。
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