nr9 1500p光刻胶-北京赛米莱德有限公司

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    2020-10-29

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负性光刻胶原理

又称光致抗蚀剂,是一种由感光树脂、增感剂(见光谱增料)和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。

原理

光刻胶在接受一定波长的光或者射线时,会相应的发生一种光化学反应或者激励作用。光化学反应中的光吸收是在化学键合中起作用的处于原子外层的电子由基态转入激励态时引起的。对于有机物,基态与激励态的能量差为3~6ev,相当于该能量差的光(即波长为0.2~0.4μm的光)被有机物---吸收,nr9 1500p光刻胶多少钱,使在化学键合中起作用的电子转入激励态。化学键合在受到这种激励时,nr9 1500p光刻胶价格,或者分离或者改变键合对象,发生化学变化。电子束、x射线及离子束(即被加速的粒子)注入物质后,因与物质具有的电子相互作用,能量逐渐消失。电子束失去的能量转移到物质的电子中,因此生成激励状态的电子或二次电子或离子。这些电子或离子均可诱发光刻胶的化学反应。

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光刻胶的组成部分

光刻胶一般由4种成分组成:树脂型聚合物、光活性物质、溶剂和添加剂。树脂是光刻胶中占比较大的组分,构成光刻胶的基本骨架,主要决定---后光刻胶的基本性能,包括硬度、柔韧性、附着力、耐腐蚀性、热稳定性等。光活性物质是光刻胶的关键组分,对光刻胶的感光度、分辨率等其决定性作用。

分辨率、对比度和敏感度是光刻胶的---参数。随着集成电路的发展,芯片制造特征尺寸越来越小,对光刻胶的要求也越来越高。光刻胶的---参数包括分辨率、对比度和敏感度等。为了满足集成电路发展的需要,光刻胶朝着高分辨率、高对比度以及高敏感度等方向发展。

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光刻胶的成分

树脂:光刻树脂是一种惰性的聚合物基质 ,是用来将其他材料聚合在一-起的粘合剂。 光刻胶的粘附性、胶膜厚度等都是树脂给的。

感光剂:感光剂是光刻胶的---部分,他对光形式的辐射能,---在紫外区会发生反应。---时间、光源所发射光线的强,度都根据感光剂的特性选择决定的。

溶剂:光刻胶中容量较大的成分,nr9 1500p光刻胶哪里有,感光剂和添加剂都是固体物质,为了方便均匀的涂覆,nr9 1500p光刻胶,要将他们加入溶剂进行溶解,形成液态物质,并且使之具有---的流动性,可以通过选择方式涂布在waf er表面。

添加剂:用以改变光刻胶的某些特性,如---光刻胶发生反射而添加染色剂。

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