光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,---是近年来---和---规模集成电路的发展,电子光刻胶供应商,更是大---进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。
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树脂( resin/polymer),光刻胶中不同材料的粘合剂,给与光刻胶的机械与化学性质( 如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等);感光剂,感光剂对光能发生光化学反应;溶剂(solvent),保持光刻胶的液体状态,光刻胶供应商,使之具有---的流动性;添加剂( additive ),用以改变光刻胶的某些特性,如---光刻胶发生反射而添加染色剂等。负性光刻胶。树脂是聚异戊二烯,一-种天然的橡胶;溶剂是;感光剂是一种经过---后释放出氮气的光敏剂,产生的自由基在橡胶分子间形成交联。从而变得不溶于显影液。负性光刻胶在---区由溶剂引起泡涨;---时光刻胶容易与氮气反应而抑制交联。
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分辨率
分辨率英文名:resolution。区别硅片表---邻图形特征的能力,一般用关键尺寸(cd,critical dimension)来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小,光刻胶的分辨率越好。
对比度
对比度(contrast)指光刻胶从---区到非---区过渡的陡度。对比度越好,形成图形的侧壁越陡峭,分辨率越好。
敏感度
敏感度(sensitivity)光刻胶上产生一个---的图形所需一定波长光的能量值(或---量)。单位:毫焦/平方厘米或mj/cm2。光刻胶的敏感性对于波长更短的深紫外光(duv)、极深紫外光(euv)等尤为重要。
粘滞性黏度
粘滞性/黏度(viscosity)是衡量光刻胶流动特性的参数。粘滞性随着光刻胶中的溶剂的减少而增加;高的粘滞性会产生厚的光刻胶;越小的粘滞性,就有越均匀的光刻胶厚度。光刻胶的比重(sg,specific gravity)是衡量光刻胶的密度的指标。它与光刻胶中的固体含量有关。较大的比重意味着光刻胶中含有更多的固体,玻璃光刻胶供应商,粘滞性更高、流动性更差。粘度的单位:泊(poise),水处理光刻胶供应商,光刻胶一般用厘泊(cps,厘泊为1%泊)来度量。百分泊即厘泊为粘滞率;运动粘滞率定义为:运动粘滞率=粘滞率/比重。 单位:百分斯托克斯(cs)=cps/sg。
粘附性
粘附性(adherence)表征光刻胶粘着于衬底的强度。光刻胶的粘附性不足会导致硅片表面的图形变形。光刻胶的粘附性必须经受住后续工艺(刻蚀、离子注入等)。
抗蚀性
抗蚀性(anti-etching)光刻胶必须保持它的粘附性,在后续的刻蚀工序中保护衬底表面。耐热稳定性、抗刻蚀能力和抗离子轰击能力。
表面张力
液体---表面分子拉向液体主体内的分子间吸引力。光刻胶应该具有比较小的表面张力(surface tension),使光刻胶具有---的流动性和覆盖。
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