北京赛米莱德公司-nr27 25000p光刻胶价格

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    2020-12-23

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光刻胶介绍

光刻胶介绍

光刻胶(又称光致抗蚀剂),是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、x射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。光刻胶具有光化学敏感性,其经过---、显影、刻蚀等工艺,可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。因此光刻胶微细加工技术中的关键性化工材料,被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作。生产光刻胶的原料包括光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体和其他助剂等。


nr9-3000pynr27 25000p光刻胶

五、---

在这一步中,将使用特定波长的光对覆盖衬底的光刻胶进行选择性地照射。光刻胶中的感光剂会发生光化学反应,从而使正光刻胶被照射区域(感光区域)、负光刻胶未被照射的区域(非感光区)化学成分发生变化。这些化学成分发生变化的区域,在下一步的能够溶解于特定的显影液中。

在接受光照后,正性光刻胶中的感光剂dq会发生光化学反应,变为---,并进一步水解为茚并羧酸(indene-carboxylic-acid, ca),羧酸在碱性溶剂中的溶解度比未感光部分的光刻胶高出约100倍,nr27 25000p光刻胶价格,产生的羧酸同时还会促进酚醛树脂的溶解。利用感光与未感光光刻胶对碱性溶剂的不同溶解度,就可以进行掩膜图形的转移。

---方法:

a、接触式---(contact printing)掩膜板直接与光刻胶层接触。

b、接近式---(proximity printing)掩膜板与光刻胶层的略微分开,大约为10~50μm。

c、投影式---(projection printing)。在掩膜板与光刻胶之间使用透镜---光实现---。

d、步进式---(stepper)


pr1-2000a1 试验操作流程

pr1-2000a1的厚度范围可以做到 1500到3500nm,如下以膜厚2900nm为列;

1,静态滴胶后以1300转/分速度持续40秒。同时必须需要在1秒内达到从0转/分到1300转/分的升速度;

2,前烘:热板120度120秒;

3,冷却至室温;

4,用波长为365,406,nr27 25000p光刻胶厂家,436的波长---,

5,nr27 25000p光刻胶,在温度为20-25度,使用rd6浸泡式、喷雾、显影 ;

6,去除光刻胶,可使用ch3coch3,rr5,rr41等。





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