nr75 1000hp光刻胶-赛米莱德

负性光刻胶简介

感光树脂经光照后，在---区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，---是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，nr75 1000hp光刻胶，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，后生成聚合物，具有形成正像的特点。光分解型，采用含有---醌类化合物的材料，经光照后，会发生光分解反应，由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。光交联型，采用---月桂酸酯等作为光敏材料，在光的作用下，其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，nr75 1000hp光刻胶报价，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品kpr胶即属此类。感光树脂在用近紫外光辐照成像时，光的波长会---分辨率（见感光材料）的提高。为进一步提高分辨率以满足---规模集成电路工艺的要求，必须采用波长更短的辐射作为光源。由此产生电子束、x 射线和深紫外(<250nm)刻蚀技术和相应的电子束刻蚀胶，x射线刻蚀胶和深紫外线刻蚀胶，所刻蚀的线条可细至1□m以下。