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正性光刻胶的金属剥离技术
正性胶的金属剥离工艺对于获得难腐蚀金属的细微光刻图形比常规的光刻胶掩蔽腐蚀法显示了---性。本文首先对金属剥离工艺中的正、负光刻胶的性能作了对比分析。认为正性光刻胶除图形分辨率高而适应于微细图形的掩膜外，它还具有图形边缘陡直， 去胶容易等性能，nr75 1000hp光刻胶厂家，比负性光刻胶更有利于金属剥离工艺。然后给出了具体的工艺条件，nr75 1000hp光刻胶报价，并根据正性光刻胶的使用特点---了工艺中的关键点及容易出现的问题。如正性光刻胶同gaas表面的粘附性较差，这就要求对片子表面的清洁处理更为严格。为了高止光刻图形的漂移控制光刻图形的尺寸，对---时同---是显影液温度提出了严格的要求。由于工艺中基本上不经过腐蚀过程，nr75 1000hp光刻胶价格，胶膜的耐腐蚀性降到了次要---。
光刻胶
光增感剂
是引发助剂，能吸收光能并转移给光引发剂，nr75 1000hp光刻胶，或本身不吸收光能但协同参与光化学反应，起到提高引发效率的作用。
光致产酸剂
吸收光能生成酸性物质并使---区域发生酸解反应，用于化学增幅型光刻胶。
助剂
根据不同的用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。
主要技术参数
分辨率（resolution）
是指光刻胶可再现图形的小尺寸。一般用关键尺寸来（cd，criticaldimension）衡量分辨率。
光刻胶市场
光刻胶市场扩增，对光刻胶的总需求不断提升。据估计，2015年国际光刻胶市场达73.6亿美元，其中pcb光刻胶占比24.5%，lcd光刻胶占26.6%，半导体光刻胶占比24.1%。2010年到2015年期间，国际光刻胶市场年复合增长率约为5.8%；据产业---数据，2015年，pcb光刻胶、lcd光刻胶和半导体光刻胶的国际市场增速均在5%左右。在下游产业的带动下，江瀚咨询预计国际光刻胶市场规模在2022年可能突破100亿美元。
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