当前位置： 首页> 商机信息
 
商机信息
信息标题 NR9 3000PY光刻胶价格-北京赛米莱德
发布时间 2021-8-17
pr1-1500a1nr9 3000py光刻胶 6，坚膜 坚膜也叫后烘，是为了去除由于显影液的浸泡引起胶膜软化、溶胀现象，能使胶膜附着能力增强，康腐蚀能力提高。 坚膜温度通常情况高于前烘和**
信息标题 NR9 3000P光刻胶-赛米莱德
发布时间 2021-8-15
光刻胶的生产步骤　　1、准备基质：在涂布光阻剂之前，硅片一般要进行处理，需要经过脱水烘培蒸发掉硅片表面的水分，并涂上用来增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物以及硅二***。2、涂布光阻剂（ph
信息标题 RR5光刻胶公司-RR5光刻胶-北京赛米莱德
发布时间 2021-8-14
光刻胶的参数赛米莱德生产、销售光刻胶，我们为您分析该产品的以下信息。分辨率分辨率英文名：resolution。区别硅片表***邻图形特征的能力，一般用关键尺寸（cd，rr5光刻胶哪里有，cri
信息标题 负性光刻胶供应商-负性光刻胶-赛米莱德
发布时间 2021-8-14
芯片光刻的流程详解（二）所谓光刻，根据---的定义，这是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用---和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底
信息标题 黑龙江负性光刻胶-负性光刻胶价格-赛米莱德(推荐商家)
发布时间 2021-8-14
nr9-1000py问题回馈：1．我们是led制造商，麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和lift-off工艺的光刻胶。a 据我所知，futurrex有几款胶很，nr7-1500pnr7-3000p
信息标题 NR9 3000PY光刻胶-北京赛米莱德公司
发布时间 2021-8-11
正性光刻胶的操作工艺(1)合成醛树脂。将原料混和甲醛送人不锈钢釜，加入适量草酸为催化剂，加热回流反应5～6h，然后减压蒸馏去除水及未反应的单体酚，得到醛树脂。(2)合成感光剂。在装有搅拌器的夹
信息标题 赛米莱德-NR9 3000P光刻胶
发布时间 2021-8-10
光刻胶简介赛米莱德——光刻胶供应商，nr9 3000p光刻胶，我们为您带来以下信息。光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，nr9 3000p光刻胶厂家，***是近年来大规模和***规
信息标题 NR73G 6000P光刻胶-赛米莱德公司
发布时间 2021-8-8
nr77-15000pynr73g 6000p光刻胶nr73g 6000p光刻胶光刻胶稳定性化学稳定性：在正常储存和操作条件下，在密闭容器中室温稳定。避免的条件: 火源、湿气、过热的环境。不相
信息标题 NR74g 6000PY光刻胶-北京赛米莱德有限公司
发布时间 2021-8-7
微流控芯片硅片模具加工如何选择光刻胶呢？赛米莱德生产、销售光刻胶，我们为您分析该产品的以下信息。一般来说线宽的用正胶，线窄的用负胶，正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显---图形有涨缩，负性胶-
信息标题 NR9 3000P光刻胶-赛米莱德
发布时间 2021-8-4
光刻胶：半导体技术壁垒较高的材料之一光刻是整个集成电路制造过程中耗时长、难度大的工艺，耗时占ic制造50%左右，成本约占ic生产成本的1/3。光刻胶是光刻过程重要的耗材，光刻胶的质量对光刻工艺
上一页 [1]... [11] [12] [13] [14] [15] [16] [17] [18] [19] [20] ...下一页
页次：15/58　10条/页　共582条