当前位置： 首页> 商机信息
 
商机信息
信息标题 NR27 25000P光刻胶公司-北京赛米莱德
发布时间 2021-7-1
nr77-5000pypr1-2000a1 试验操作流程pr1-2000a1的厚度范围可以做到 1500到3500nm，如下以膜厚2900nm为列；1，静态滴胶后以1300转/分速度持续40秒
信息标题 RR5光刻胶哪里有-RR5光刻胶-北京赛米莱德公司
发布时间 2021-7-1
负性光刻胶简介感光树脂经光照后，rr5光刻胶哪里有，在***区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，***是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，rr5光刻
信息标题 RD6光刻胶-赛米莱德-RD6光刻胶报价
发布时间 2021-7-1
光刻胶简介赛米莱德——光刻胶供应商，我们为您带来以下信息。光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，---是近年来***和---规模集成电路的发展，更是大---进了光刻胶的研究开发和应用
信息标题 负性光刻胶-赛米莱德公司-负性光刻胶公司
发布时间 2021-7-1
美国futurrex的光刻胶北京赛米莱德贸易有限公司供应美国futurrex新型lift-off光刻胶nr9-3000py，此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线（366纳米）***工具
信息标题 NR73G 6000P光刻胶-赛米莱德公司
发布时间 2021-7-1
光刻胶光刻胶组分及功能光引发剂光引发剂吸收光能（辐射能）后经激发生成活性中间体，并进一步引发聚合反应或其他化学反应，是光刻胶的关键组分，nr73g 6000p光刻胶，对光刻胶的感光度、分辨率等
信息标题 NR21 20000P光刻胶-赛米莱德(推荐商家)
发布时间 2021-6-30
何为光刻胶光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种具有光化学敏感性的功能性化学材料，由光引发剂、光刻胶树脂、单体（活性稀释剂）、溶剂和其他助剂组成的对光敏感的混合液体，其中，树脂约占50%，单体约占35%
信息标题 负光阻光刻胶供应商-光刻胶供应商-北京赛米莱德公司
发布时间 2021-6-30
光刻胶按用途分类光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类，按照应用领域，光刻胶可以划分为印刷电路板(pcb)用光刻胶、液晶显示(lcd)用光刻胶、半导体用光刻胶和
信息标题 北京赛米莱德公司-NR75 1000HP光刻胶公司
发布时间 2021-6-30
光刻胶主要用于图形化工艺以半导体行业为例，光刻胶主要用于半导体图形化工艺。图形化工艺是半导体制造过程中的***工艺。图形化可以简单理解为将设计的图像从掩模版转移到晶圆表面合适的位置。一般来讲图
信息标题 NR75 1000HP光刻胶-赛米莱德(推荐商家)
发布时间 2021-6-30
光刻胶在***过程中，正性胶通过感光化学反应，nr75 1000hp光刻胶哪家好，切断树脂聚合体主链和从链之间的联系，达到削弱聚合体的目的，所以***后的光刻胶在随后显影处理中溶解度升高。**
信息标题 NR71 3000PY光刻胶-赛米莱德
发布时间 2021-6-30
光刻胶的未来发展以下内容由赛米莱德为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。由于光刻胶的技术壁垒较高，国内光刻胶市场基本被国外企业垄断。---是高分辨率的krf和arf光刻胶，基本被日本和美国企业
上一页 [1]... [15] [16] [17] [18] [19] [20] [21] [22] [23] [24] ...下一页
页次：19/58　10条/页　共582条