正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，nr9 1500p光刻胶，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中，感光剂是光敏化合物，nr9 1500p光刻胶多少钱，常见的是------（dnq）。在---前，nr9 1500p光刻胶价格，dnq是一种---的溶解，降低树脂的溶解速度。在紫外---后，dnq在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，nr9 1500p光刻胶哪里有，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种---反应会在dnq中产生羧酸，它在显影液中溶解度---。正性光刻胶具有---的对比度，所以生成的图形具有---的分辨率。
正负光刻胶
光刻胶分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。正胶的图像与掩模板的图像是一致的，故此叫正胶，利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。
一般来说线宽的用正胶，线窄的用负胶! 正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显---图形有涨缩，负性胶---在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm 导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。虽然使用更薄的胶层厚度可以---负性胶的分辨率，但是薄负性胶会影响孔。同种厚度的正负胶，在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶---，正胶---。
二、预烘和底胶涂覆（pre-bake&primer vapor）
由于光刻胶中含有溶剂，所以对于涂好光刻胶的硅片需要在80度左右的。硅片脱水烘焙能去除圆片表面的潮气、增强光刻胶与表面的黏附性、通常大约100 °c。这是与底胶涂覆合并进行的。
底胶涂覆增强光刻胶(pr)和圆片表面的黏附性。广泛使用: (hmds)、在pr旋转涂覆前hmds蒸气涂覆、pr涂覆前用冷却板冷却圆片。
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