问题回馈：
1．我们是led制造商，麻烦几款可以用于离子蚀刻和lift-off工艺的光刻胶。
a 据我所知，futurrex
有几款胶很，nr7-1500p
nr7-3000p是专门为离子蚀刻
设计的，nr9-3000py可以用于lift-off上的应用。
2．请问有没有可以替代goodpr1518，micropure去胶液和goodpr显影液的产品？
a 美国光刻胶，futurrex
正胶pr1-2000a
， 去胶液rr4，和显影液rd6可以解决以上问题。
3．你们是否有可以替代shipley
s1805的用于dvd的应用产品？
a 我们建议使用futurrex
pr1-500a ， 它有几个优点：比较好的解析度，比较好的线宽控制，
反射比较少，不需要hmds，rie后去除容易等~
4． 求助，耐高温的光阻是那一种？
a futurrex， nr7 serious(负光阻)orpr1 serious(正光阻)，再经过hmcts
silyiation process，可以达到耐高温200度，pspi透明polyimide，可耐高温250度以上。
5．厚膜光阻在镀金应用上，用哪一种比较理想？
a futurrex ， nr4-8000p比干膜，和其他市面上的湿膜适合，和理想。
6．请教lift-off制程哪一种光阻适合？
a 可以考虑使用futurrex
，正型光阻pr1，负型光阻用nr1&nr7，它们都可以耐高温180度，完全可以取代一般制作pattern的光阻。
7．请问，那位---知道，rie
mask，用什么光阻比较好？
a 正型光阻用pr1系列，rr5光刻胶，负型光阻使用nr5，两种都可以耐高温180度。
8．一般厚膜制程中，哪一种光阻适合？
a nr9-8000p有---的深宽比（超过4：1），一般厚膜以及，mems产品的高需求。
9．在deep
rie和mask 可以使用nrp9-8000p吗？
a 建议不使用，因为使用nr5-8000理想和适合。
10．我们是oled，我们有一种制程上需要一层spacer，那种光阻适合？
a 有一种胶很适合，美国futurrex
生产的nr1-3000py
and和
nr1-6000py，都适合在oled制程中做spacers
光刻胶市场
据统计资料显示，2017年光刻胶行业产量达到7.56万吨，较2016年增加0.29万吨，其中，本土光刻胶产量为4.41万吨，与7.99万吨的需求量差异较大，说明我国供给能力还需提升。
国内企业的光刻胶产品目前还主要用于pcb领域，代表企业有晶瑞股份、科华微电子。
在半导体应用领域，随着汽车电子、物联网等发展，会在一定程度上增加对g线、i线的需求，利好g线、i线等生产企业。预计g线正胶今后将占据50%以上市场份额，i线正胶将占据40%左右的市场份额，rr5光刻胶公司，duv等其他光刻胶约占10%市场份额，给予北京科华、苏州瑞红等国内公司及美国futurrex的光刻胶较大市场机会。
光刻胶组分及功能
光引发剂
光引发剂吸收光能（辐射能）后经激发生成活性中间体，并进一步引发聚合反应或其他化学反应，是光刻胶的关键组分，rr5光刻胶报价，对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用。
树脂
光刻胶的基本骨架，是其中占比较大的组分，主要决定---后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、---前后对溶剂溶解度的变化程度、光学性能、耐老化性、耐蚀刻性、热稳定性等。
溶剂
溶解各组分，是后续聚合反应的介质，rr5光刻胶，另外可调节成膜。
单体
含有可聚合---团的小分子，也称之为活性稀释剂，一般参加光固化反应，可降低光固化体系粘度并调节光固化材料的各种性能。
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