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政策扶持

为促进我国光刻胶产业的发展，rr5光刻胶多少钱，02重大专项给予了大力支持。今年5月，02重大专项实施管理办公室组织任务验收---组、财务验收---组通过了“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目的任务验收和财务验收。

据悉，经过项目组全体成员的努力攻关，rr5光刻胶，完成了euv光刻胶关键材料的设计、制备和合成工艺研究、配方组成和光刻胶制备、实验室光刻胶性能的初步评价装备的研发，达到了任务书中规定的材料和装备的考核指标。项目共申请发明---15项（包括国际---5项），截止到目前，共获得授权---10项（包括国际---授权3项）。

二、预烘和底胶涂覆（pre-bake&primer vapor）

由于光刻胶中含有溶剂，所以对于涂好光刻胶的硅片需要在80度左右的。硅片脱水烘焙能去除圆片表面的潮气、增强光刻胶与表面的黏附性、通常大约100 °c。这是与底胶涂覆合并进行的。

底胶涂覆增强光刻胶(pr)和圆片表面的黏附性。广泛使用: (hmds)、在pr旋转涂覆前hmds蒸气涂覆、pr涂覆前用冷却板冷却圆片。