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信息标题 NR9 3000PY光刻胶-赛米莱德公司
发布时间 2021-5-21
pr1-1500a1nr9 3000py光刻胶正性光刻胶的金属剥离技术正性胶的金属剥离工艺对于获得难腐蚀金属的细微光刻图形比常规的光刻胶掩蔽腐蚀法显示了***性。本文首先对金属剥离工艺中的正、
信息标题 光刻胶厂家-赛米莱德公司-四川光刻胶
发布时间 2021-5-20
光刻胶定义光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外***或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路
信息标题 半导体光刻胶-赛米莱德-半导体光刻胶报价
发布时间 2021-5-17
光刻胶的作用有什么？光刻是将图形由掩膜版上转移到硅片上，为后续的刻蚀步骤作准备。在光刻过程中，需在硅片上涂一层光刻胶，经紫外线***后，光刻胶的化学性质发生变化，在通过显***，被***的光刻
信息标题 透明光刻胶哪家好-北京赛米莱德有限公司-透明光刻胶
发布时间 2021-5-17
   光刻胶定义光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，透明光刻胶公司，是转移紫外***或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，
信息标题 RR5光刻胶-北京赛米莱德公司-RR5光刻胶哪里有
发布时间 2021-5-15
   光刻胶的主要技术参数1．灵敏度（sensitivity）灵敏度是衡量光刻胶***速度的指标。光刻胶的灵敏度越高，所需的***剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mj/cm
信息标题 NR26 25000P光刻胶哪里有-北京赛米莱德公司
发布时间 2021-5-14
正负光刻胶正负光刻胶光刻胶分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。正胶的图像与掩模板的图像是一致的，故此叫正胶，利用
信息标题 光刻胶 FUTURREX厂家-北京赛米莱德
发布时间 2021-5-14
nr77-25000p光刻胶 futurrex表征光刻胶特性和性能、质量的参数有以下三个：(1)光学性质。光刻胶的光学性质包括光敏度和折射率。(2)力学特性和化学特性。光刻胶的力学特性和化学特
信息标题 RD6光刻胶厂家-赛米莱德-RD6光刻胶
发布时间 2021-5-9
正性光刻胶正性光刻胶正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，rd6光刻胶公司，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，rd6光刻胶哪里有，当没有溶解存在时，线性酚醛树脂会
信息标题 RD6光刻胶-赛米莱德公司-RD6光刻胶公司
发布时间 2021-5-9
光刻胶 北京赛米莱德贸易有限公司供应美国futurrex新型lift-off光刻胶nr9-3000py，此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线（366纳米）---工具。当显---nr9-3
信息标题 PR1 2000A1光刻胶-北京赛米莱德有限公司
发布时间 2021-5-8
光刻胶的相关内容光刻胶必须满足几个硬性指标要求：高灵敏度，pr1 2000a1光刻胶，高对比度，好的蚀刻阻抗性，pr1 2000a1光刻胶公司，高分辨力，易于处理，高纯度，长寿命周期，低溶解度
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